Заказы у главной мировой компании по микроэлектронике упали вдвое из-за торговых войн США против Китая. В опасности производство процессоров во всем мире
Падение на азиатских рынках возглавили акции конкурентов ASML и производителя полупроводников TSMC. Инвесторов разочаровали два события: снижение прогноза по выручке на следующий год и потенциальное сокращение доли китайского рынка в выручке ASML в том же периоде. Это объясняется усилением санкций США против поставок литографического оборудования в Китай.
Падение заказов и акций ASML
Сумма чистых заказов крупного производителя полупроводникового оборудования ASML из Нидерландов в III квартале 2024 г. составила 2,6 млрд евро ($2,83 млрд), что почти в два раза ниже консенсусной оценки London Stock Exchange Group (LSEG) в 5,6 млрд евро ($6,1 млрд). Однако продажи компании превзошли ожидания и достигли 7,5 млрд евро ($8,1 млрд). В ASML ожидают, что чистый объем продаж в 2025 г. составит от 30 млрд до 35 млрд евро (от $32,6 млрд до $38,1 млрд), что соответствует нижней половине ранее озвученного ею диапазона.
Тем не менее акции ASML 15 октября 2024 г. после публикации отчета о продажах упали на 16%. Об этом сообщило издание CNBC. В настоящее время компании столкнулась с большими проблемами из-за ограничений на поставки оборудование в Китай, со стороны США и Нидерландов.
Падение акций ASML привело к тому, что важнейшая полупроводниковая компания потеряла 48,7 млрд евро ($52,99 млрд) рыночной капитализации за один день. На фоне этого события подешевели также акции других производителей чипов, включая Nvidia, Advanced Micro Devices и Broadcom.
ASML можно назвать главной мировой компанией по микроэлектронике, поскольку это основной мировой производитель литографического EUV-оборудования, ключевого в производстве передовых микрочипов, изготавливаемых по техпроцессам 7 нм и меньше. Именно такие чипы используются в современных смартфонах и системах искусственного интеллекта (ИИ). Да и в том, что касается DUV-литографов для более устаревших техпроцессов, например 14 или 16 нм, обратиться кроме как к голландцам не к кому. Оборудование компании используются многими крупнейшими мировыми производителями микросхем от Nvidia до Taiwan Semiconductor Manufacturing Company (TSMC) для производства современных микросхем.
Как написал в отчете о доходах генеральный директор ASML Кристоф Фуке (Christophe Fouquet), хотя в сфере ИИ продолжают наблюдаться сильные разработки и потенциал роста, другим сегментам рынка требуется больше времени для восстановления. Сейчас кажется, что восстановление происходит более постепенно, чем ожидалось ранее.
В презентации ASML по доходам за июнь этого года, 49% ее продаж приходится на Китай. В сентябре же Вашингтон ввел новые меры экспортного контроля критических технологий в Китай, включая передовые инструменты для производства чипов. Отдельно правительство Нидерландов объявило о планах взять под контроль экспорт машин ASML в страну.
Прогнозы и аналитика
Финансовый директор ASML Роджер Дассен (Roger Dassen) заявил о том, что ожидает улучшения бизнеса в Китае вместе с увеличением количества заказов. По его мнению, китайский рынок даст компании 20% общего дохода в 2025 г.
Аналитики Bernstein в своем комментарии отметили более слабый, чем ожидалось, портфель заказов и неутешительный прогноз для ASML на 2025 г. По их мнению, понижение прогнозируемых показателей производителя указывает на то, что задержка циклического восстановления и особые проблемы клиентов оказывают сильное влияние на ожидания на 2025 г.
Аналитики Cantor, в свою очередь, заявили, что пессимистичный прогноз для ASML явно разочаровывает и пагубно повлияет на акции всей полупроводниковой отрасли. Однако эксперты считают, что отчет компании не говорит о каких-либо изменениях в темпах развития ИИ.
Рост продаж в Китае
В апреле этого года Китай закупил у ASML оборудования на 2 млрд евро ($2,17 млрд), несмотря на санкции США. Продажи компании ASML подпрыгнули на фоне лихорадочных закупок Китаем оборудования для производства чипов на фоне приближающегося запрета поставок в КНР новейших средств производства полупроводниковой продукции.
Китайские компании сосредоточились на создании чипов старых поколений и запасаются литографическими машинами, не попадающими под экспортный контроль. К сожалению для ASML, в настоящее время этот финансовый водопад завершится, для Китая доступ к DUV-литографии будет закрыт.
Китайский литографический сканер
Ранее Китай разработал собственный литографический сканер, желая меньше зависеть от поставок ASML. Согласно документам, китайские инженеры создали машину на основе фторида аргона, способный печатать чипы по техпроцессу 65 нм.
Новый китайский литографический сканер использует длину волны света 193 нм и может печатать чипы с разрешением 65 нм. Такое разрешение было доступно клиентам голландской компании ASML еще в 2009 г.
По информации Bloomberg, в связи с последними санкциями со стороны правительства Нидерландов, требующими от ASML получения лицензий перед продажей устаревших машин для производства чипов на базе DUV, Китай год назад разработал собственный сканер DUV. В документе по внедрению руководящих принципов сказано, что китайские ученые создали машину для литографии на основе фторида аргона с толщиной слоя менее 8 нм.
Если же говорить о последнем портфолио продуктов ASML, то наиболее близким аналогом является сканер TWINSCAN XT:1460K. Эта машина также имеет разрешение ниже 65 нм и использует источник света на основе фторида аргона длиной 193 нм. Однако она все равно более продвинута, чем китайская машина, поскольку спецификация наложения составляет менее 2,5 нм, что намного превосходит 8-нм наложение, заявленное китайским министерством.
Поскольку производство полупроводников включает в себя манипулирование светом для печати мельчайших схем на кремниевой пластине, его качество и технические параметры включают в себя манипулирование светом. Разрешение машины для производства чипов определяется просто как минимальный размер элемента, который машина может напечатать. Этот размер зависит от множества других факторов, из которых наиболее важными являются числовая апертура машины, ее глубина фокусировки и размер маски.